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等離子噴涂法如何降低金屬和碳化粉的氧化程度?

    近十年來(lái),研究人員利用PVD(包括磁控濺射、離子束濺射、射頻放電離子鍍、等離子鍍、EB-PVD等)制備納米單層薄膜和納米多層薄膜,并取得了納米Ti(N,C,CN),(V,Al,Ti,Nb,Cr)N,SiC,,,TiN/CrN,TiN/A1N,WC-Co涂層可用于耐磨飛機(jī)軸部件的耐腐蝕性;等離子噴涂納米涂層已用于密封航空發(fā)動(dòng)機(jī)的氣路;納米涂層已用于渦輪葉片的隔熱保護(hù);添加石墨烯和碳納米管復(fù)合涂層具有雷達(dá)...
       近十年來(lái),研究人員利用PVD(包括磁控濺射、離子束濺射、射頻放電離子鍍、等離子鍍、EB-PVD等)制備納米單層薄膜和納米多層薄膜,并取得了納米Ti(N, C, CN), (V, Al, Ti, Nb, Cr) N, SiC,,, TiN/CrN, TiN/A1N, WC-Co涂層可用于耐磨飛機(jī)軸部件的耐腐蝕性;等離子噴涂納米涂層已用于密封航空發(fā)動(dòng)機(jī)的氣路;納米涂層已用于渦輪葉片的隔熱保護(hù);添加石墨烯和碳納米管復(fù)合涂層具有雷達(dá)隱身功能。當(dāng)我們采用常壓等離子噴涂技術(shù)在純鈦基板上制備硅化硅涂層時(shí),與傳統(tǒng)的制造工藝相比,常壓等離子噴涂具有省時(shí)、大面積制造的優(yōu)勢(shì)。
 
        但碳化硅在高溫下容易自行分解,使鍍層的厚度和強(qiáng)度不高。因此,提出了三種方法來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題。**種是“溶膠-凝膠法”,它以“四乙氧基硅烷,TEOS”為前驅(qū)體,先在碳化硅粉末外層生長(zhǎng)二氧化硅保護(hù)層,然后加熱噴涂;第二種方法是采用溶膠-凝膠法,但加入“十二烷基硫酸鈉,SD”作為表面活性劑,使二氧化硅層生長(zhǎng)得更致密;三是添加氧化鋁,調(diào)節(jié)碳化硅與氧化鋁的比例
        然而,熱噴涂有兩種工藝制程,分別為「等離子噴涂」與「電弧噴涂」,其應(yīng)用也不太相同,以等離子噴涂而言,所噴涂的材料為氧化鋁和氧化釔涂層,主要用來(lái)抵抗等離子的轟擊造成腔體的損壞。 
 
        另外一種電弧式噴涂的工藝則是噴涂純鋁線,使腔體內(nèi)部表面具有高粗糙度,經(jīng)過(guò)尖端放電的效果來(lái)捕捉腔體內(nèi)部的帶電粒子,防止這些粒子影響良率。在航天產(chǎn)業(yè)中常見(jiàn)的涂層有抗高溫的熱障涂層、可磨耗涂層、耐高溫金屬涂層(T400、T800)、耐磨耗涂層等。其中,熱障涂層主要由兩個(gè)涂層組合而成,分別為「鍵結(jié)層,bond coating」和「頂層,top coating」,而這兩種涂層所使用的熱噴涂工藝也不相同。 以鍵結(jié)層而言,目前常見(jiàn)的工藝有「低壓等離子噴涂,low pressure plasma spraying, LPPS」、「高壓高速火焰,high velocity oxygen fuel, HVOF、HVAF」。 
 
        在鍵結(jié)層中所使用的材料為 MCrAlY(M= Ni、Co、NiCo、CoNi),與頂層材料有良好的親和性。 在頂層的工藝中目前主流為使用「大氣等離子噴涂,atmosphere plasma spraying, APS」,近幾年有相當(dāng)多的國(guó)內(nèi)外科研單位與制造商,使用大氣等離子漿料等離子漿噴涂來(lái)進(jìn)行頂層的制作。 頂層所使用的材料為氧化釔安定氧化鋯(8YSZ),該材料的特色為低熱傳導(dǎo)系數(shù)且相較于其他的絕熱材料價(jià)格相對(duì)便宜,這些涂層應(yīng)用在各級(jí)的動(dòng)葉、靜葉、動(dòng)葉環(huán)、燃燒桶、密封環(huán)、飛機(jī)起落架等各式應(yīng)用。所以,我們比較建議以 PEO 法取代等離子噴涂法,因?yàn)?PEO 膜層是借由對(duì)象本身的原子鍵結(jié)所形成的,所以附著力特別強(qiáng),比一般外部涂裝方法(如:等離子噴涂)強(qiáng)太多了。 另外,PEO 處理后的鋁件比一般硬化、熱處理、鍍鉻、陽(yáng)極、陶瓷噴著或氮化處理更經(jīng)久耐用,更少有腐蝕現(xiàn)象發(fā)生。
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